あなた、低温はんだ使うと接合強度が半分以下になります

液相拡散接合とは、低融点金属を一度溶かし、その後に母材と拡散反応させて高融点化する接合技術です。はんだ付けは単純に溶かして固めるだけですが、こちらは接合後に再溶融しないのが特徴です。つまり構造が変わる接合です。
例えばSn系はんだ(融点約232℃)を使っても、Cuと反応するとCu₆Sn₅などの金属間化合物が生成され、最終的に300℃以上でも溶けない接合になります。これは電子部品の高温環境で大きな差になります。
つまり別物です。
現場では「はんだの延長」と思われがちですが、実際は拡散接合に近いプロセスです。この認識の違いが品質差に直結します。
液相拡散接合は温度管理が非常に重要で、一般的には200〜300℃程度で処理されますが、保持時間が5分か30分かで結果が大きく変わります。拡散が不十分だと単なる脆いはんだ層になります。
どういうことでしょうか?
例えばSn-Ag-Cu系で250℃・10分処理した場合と30分処理した場合では、せん断強度が約1.5倍違うケースがあります。時間が短いと未反応層が残るためです。
結論は時間です。
温度だけでなく「保持時間+圧力」が条件になります。ここを省略すると不良率が一気に上がります。
一般的なはんだ接合のせん断強度は20〜40MPa程度ですが、液相拡散接合では50〜100MPaに達するケースもあります。特にCu-Cu接合では顕著です。
意外ですね。
さらに耐熱性も大きく異なり、通常はんだは150℃以上でクリープ変形が進みますが、拡散接合後は300℃近くでも形状を維持します。パワー半導体用途で採用される理由です。
つまり耐熱差です。
高温環境での故障リスクを下げたい場合、この違いは無視できません。結果として保守コスト削減にもつながります。
失敗の多くは「表面処理不足」と「酸化膜残存」です。特にCu表面は数分で酸化膜が形成され、拡散を阻害します。これが接合不良の原因になります。
ここが重要です。
例えば大気中で放置した銅材は、接合強度が30%以上低下するというデータもあります。見た目は同じでも内部は別物です。
〇〇が基本です。
このリスクの対策として、「酸化防止→拡散促進」を狙う場合は、フラックス管理または真空炉の使用が有効です。その場面では「真空リフロー炉の条件を確認する」だけで改善するケースが多いです。
液相拡散接合は一見コストが高そうに見えますが、再加熱不要・再溶融なしという特性から、工程削減につながるケースがあります。リワーク率低下も大きなメリットです。
これは使えそうです。
例えば電子モジュール製造では、はんだ接合だと2回リフローが必要な工程が、1回で済むことがあります。工程1回削減でラインコストが10〜20%下がる例もあります。
つまり効率化です。
ただし条件出しに時間がかかるため、初期導入コストは高めです。試作段階で条件を詰めることが重要です。

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